第331章 流片成功！ (7 / 14)

        她摘下防尘面罩，额头上全是汗。

        “束流不稳，真空也拉不到位。”

        车间里的气氛沉下去了。

        光刻过了，刻蚀过了，偏偏倒在了最基础的掺杂上。

        林希站在注入机旁边，手扶着冰凉的金属外壳。

        他闭上眼睛。

        脑海中，直播间的弹幕已经开始翻涌。

        【离子注入！关键参数来了！！！】

        【我查了771所这批机器的资料——核心问题是束流电流太低导致注入时间过长，硅片在真空腔里受热不均匀！】

        【解法很简单但很反直觉——把束流电流提上去！10mA！加速电压拉到50keV！让注入时间缩短，减少热积累！】

        【最关键的一步：真空度！必须拉到10的负5次方帕斯卡！不然残余气体会和离子束发生散射，杂质分布肯定不均匀！】

  The content is not finished, continue reading on the next page