第一百八十五章：N-漂移层 (5 / 7)

        一次渗透碳原子的DPA损伤只有18.3，这怎么可能？

        哪怕是风车国那边最先进的离子注入，碳化硅晶材中的碳原子损伤也会达到三位数以上。

        更关键的是，这种方式二次渗透的都只有低两位数的DPA损伤。

        这是上帝才能做到事情。

        这样低的渗透损伤率，如果应用到芯片的制造上.......。

        实验室的中年组长已经不敢再想下去了。

        正如华国京城某间实验室中一样，这样的场景不断重复在世界各地中。

        模拟空间中，一下午的时间很快就过去了。

        经历过整整六次的渗透处理后，太阳也下山了。

        但今天的直播到现在还不能停下。

        渗透处理过后的碳化硅晶材需要更进一步处理，将刚注入的铝离子稳定下来，形成可用的N-漂移层。

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