第183章 招揽浸润光刻机之父林苯坚（加更）！ (6 / 8)

        其实，光刻机巨头ASML之所以能够发展起来，成为世界上首屈一指的光刻机巨头，最主要的原因恐怕就是林苯坚发明的‘浸润式微影技术’！

        依照摩尔定律，每经过18至24个月的时间，在成本保持不变的情况下，芯片上的晶体管数量便会翻倍，性能亦会实现飞跃式的提升。

        然而，这一规律在20世纪90年代却遇到了前所未有的挑战。

        当时，尽管樱花国和鹰国的光刻机企业众多，但它们却共同陷入了一片困境。

        原因就在于光刻机的光源波长始终无法突破193nm的瓶颈，无法再进一步缩短。

        在半导体制造的领域里，光源波长的缩短直接关联着芯片制程的先进性。

        樱花国的呢康公司主张采用157纳米F2激光技术，而由鹰国主导的EUV联盟则力推使用极紫外光技术，其光源波长仅十几纳米。

        然而，当时的技术瓶颈使得这两种先进方案都难以实现。

        因此，全球半导体行业在这一时期仿佛陷入了停滞不前的状态。

        就在这个关键时刻，林苯坚走进了人们的视线。

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