第332章 我们就差这张牌了！ (10 / 11)

        　　

        　　这可是一次性要画超过10的14次方个天线结构，这确实做不到。

        　　

        　　但是我们可以用这支笔，去设计一套更聪明的笔法。

        　　

        　　我们能用DUV光刻机通过多重曝光技术，造出远比它极限更低的电路尺寸。

        　　

        　　同样的我们可以借鉴在晶圆制造上已经成熟的自对准四重曝光的思路，把它反过来，应用在母版制造上！

        　　

        　　我们用羲之，先刻画出一个16纳米周期的基础图案，然后通过多次、精准的沉积和蚀刻，在母版上，自我生长、复制出周期为4纳米的结构！

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