第120章 51区的脑补闭环了（1w） (15 / 31)

        而且此时的华国缺乏精密半导体制造设备，光刻机和晶圆切割机都很缺乏。

        最开始大家只能使用锯子手工切割硅片，并通过人工抛光达到所需平整度。

        光刻工艺需要高精度掩模和曝光系统更是只能依靠自制设备。

        “守觉，这块硅片的表面粗糙，刻蚀不均匀。我们的光刻设备精度不够。”

        “是的，我们只能靠手工调整掩模和曝光时间。必须再试几次。”

        大家都深知设备限制，不得不自力更生。

        最开始团队只能自制光刻掩模，通过反复试验优化曝光和显影工艺。

        设计最简单的光学系统，利用现有显微镜改装，勉强实现微米级图案化。

        这样搞，无论是良率还是稳定性都特别差。

        好在东德的合作很快到来，就像一阵春风，东德在光学仪器上，帮助他们快速解决了原本无法解决的关卡。

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