第四百一十三章：性能优异的碳基光刻胶 (3 / 13)

        虽然浸泡在溶液中的石墨烯晶圆肉眼看不出什么变化，但当韩元用镊子夹住晶圆在显影溶液中轻轻晃荡的时候，就可以看到显影溶液的颜色变化了。

        那是被显影溶液侵蚀掉并冲走了的石墨烯材料导致的。

        .......

        将石墨烯晶圆从显影溶液中取出，清晰掉上面残留的液体，透过观察设备，可以清晰的看到这一块石墨烯晶圆表面已经有了相当大的变化。

        没有被碳基光刻胶覆盖的区域已经被显影溶液侵蚀的差不多了，而覆盖了光刻胶的另一半则并没有什么太明显的变化。

        这就是负性光刻胶的功劳了。

        它覆盖在石墨烯单晶晶圆表面后，通过紫外光照，可以在短时间内迅速变态，改变覆盖区域的石墨烯结构，增强其对显影溶液的抗性，让其变得不容易被侵蚀。

        而没有覆盖光刻胶的地方，就会被侵蚀掉，形成与遮光物的形状相反的样子。

        也就是形成掩膜版相反的模样。

        这就是芯片通过光刻机雕刻的最主要原理，也是光刻胶在芯片制造过程中异常重要，甚至堪比光刻机的主要原因。

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